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二手长晶炉设备回收+南京离子泵回收附近的电话

文章来源:shxj365 发布时间:2024-05-09 19:44:41


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与氩 气输入管12相连通的环形气体分布器11,其特征在于经氩气输入管12 输入的氩气气压为0. 8 x 103Pa0. 9 x 103Pa,氩气流量为30L/min。还包括设于该炉的坩埚支持器14下方和该部的排气口 13之间 的碗形的气流导向装置20,其包括设于气流导向装置20底部的中轴 孔2-l,设于所述中轴孔2-1两侧的一对电极孔2-2。本实施例的直拉式单晶生长炉包括氩气输入管12为现有技术的切克劳斯基(直拉)法硅单晶的直拉式单晶生长 炉的剖面结构示意图2为图1中的氩气输入管与环形气体分布器的结构示意图3为实施例1中直拉式单晶生长炉的气流导向装置的结构示意图4为图3的A-A剖面视图5为为图3的B-B剖面视图6为实施例1中直拉式单晶生长炉的剖面结构示意图7为实施例1中直拉式单晶生长炉的另一剖面结构示意图。具体实施方式以及设于所述中轴孔 2-1两侧并与该炉的排气口 13相对的通气孔2-3,该炉的石墨中轴21穿过所述气流导向装置20的中轴孔2-1,该炉的一对电极柱15分别穿过所述电 极孔2-2,该炉的排气口 13与气流导向装置20的各通气孔2-3相连通,气 流导向装置20的上端部2-4设于该炉的保温筒17与发热体16之间。

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顾名思义,关电源是利用电子关器件(如晶体管,场效应管,可控硅闸流管等),通过控制电路,使电子关器件不停地“接通”和“关断”,让电子关器件对输入电压进行脉冲调制,从而实现DC/AC,DC/DC电压变换,以及输出电压可调和自动稳压。[1]。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。,随着IT产业的迅速发展,单晶硅生产市场需求剧增,研制一种满足工艺要求。是在硅结晶生长始时。一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料用低速提拉低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。在半导体材料中用量大和用途广的是半导体硅。95%以上的半导体器件是用硅材料的,99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅本文结合某单晶炉产品的研制齿轮齿条减速后带动提拉杆上下运动。根据硅单晶生产工艺经折算后(见下节式(3))。这个问题一直制约着晶体生长的质量和生产效率的提高。以前虽然提出过很多的解决措施,但其效果均不明显。